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1.1.2化學機械拋光技術的產生與發(fā)展 根據(jù)拋光漿料與硅片表面間的作用原理,半導體硅片拋光工藝可分為三類:機械拋光、化學拋光和化學機械拋光。 機械拋光是早期一、拋光技術 初的半導體基片(襯底片)拋光沿用機械拋光、例如氧化鎂、氧化鋯拋光等,但是得到的晶片表面損傷是及其嚴重的。直到60年代末,一種新的拋光技術——化學機械拋光(一)圓盤機 圓盤機(見圖51)是在三合一清洗機的基礎上改造而成的,一般機械采用單相AC220V電壓,功率1.5~4HP(1HP=735.499W),機械轉速150290r/min,適合于小面積、地面平整區(qū)域、材質

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氧化鎂石研磨機械多少錢一臺,固著磨料加工:尖硬的磨料顆粒對玻璃表面的機械破碎去除過程,水解作用是次要的。 球面粗磨:對于球面的粗磨通常會采用洗削加工,又稱為范成法加工,利用磨輪刃口軌跡包絡面成型球面的方公司簡介:山東省曲阜市泰豐機械設備有限公司 山東曲阜市泰豐機械設備有限公司是山東省批取得生產制造許可證的廠家之一,是山東省定點生產農業(yè)養(yǎng)殖機械的專業(yè)工廠。曲阜市泰豐機平邑啟航舊鋸石機購銷部 查看詳情 ¥2.88萬/臺 河南新鄉(xiāng) 瓷土磨粉機 電磁石墨粉碎機 竹炭研磨機 炭黑超微振動磨機 立式、臥式 驕陽機械品牌 河南驕陽機械設備有限公司 查看詳情

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