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碳化硅 工藝

深入探討碳化硅工藝:半導體材料的新一代繼承者世強元件電商

2016年3月9日 碳化硅SiC材料的性能、SiC器件展現出的優良特性以及功率半導體器件的需求持續增長,激勵著人們對其工藝與器件開發上孜孜不倦的追求。

4米大口徑碳化硅非球面光學反射鏡研制成功新華網 新華社

2018年8月23日 4米大口徑碳化硅非球面光學反射鏡研制成功(記者唐婷)"我們完成了 高精度碳化硅(SiC)非球面反射鏡制造,對其核心制造設備以及制造工藝 

β/α復合碳化硅技術陶瓷的制備工藝與性能研究《西安科技大學》2015年

【摘要】:碳化硅陶瓷具有硬度高、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化性能強、抗熱震性佳、熱穩定性強、熱膨脹系數低以及導熱系數高等優點,一直是材料學研究熱點之一。本文在前 

黑碳化硅微粉生產工藝流程淄博金晶川新材料科技有限公司

2018年1月30日 黑碳化硅微粉經過多個工藝流程煉制成不同粒度,滿足不同工業需求,嚴格的原材料選配以及嚴格的生產工藝是質量的關鍵。一、原料.

SiC器件定制 BASiC l 基本半導體碳化硅功率器件領軍品牌

完整的4/6寸生產流程線,擁有碳化硅外延、高溫離子注入、高溫退火、高溫氧化等全套工藝設備,提供完整的器件生產或部分工藝步驟定制;. ? 全生產流程可控, 

功率器件工藝材料雙雄并起:SiC和GaN基礎器件與非網

碳化硅的結構特性及優缺點. 碳化硅(SiC)俗稱金剛砂,為硅與碳相鍵結而成的陶瓷狀化合物,碳化硅在大自然以莫桑石這種稀罕的礦物的形式存在。自1893年起碳化 

SiC材料有哪些的性能? 知乎專欄

上世紀四五十年代,以硅(Si)和鍺(Ge)為代表的代半導體材料奠定了微電子產業的基礎。經過幾十年的發展,硅材料的制備與工藝日臻,Si基器件的設計和開發 

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BASiC l 基本半導體碳化硅功率器件領軍品牌

深圳基本半導體有限公司是中國第三代半導體領軍企業,致力于碳化硅功率器件的研發與產業化,對碳化硅器件的材料制備、芯片設計、制造工藝、封裝測試、驅動應用 

SiC tubes with CARBOGUARD? wrapping for heat exchangers 西格

碳纖維纏繞技術轉移碳化硅管——對碳化硅熱交換器的額外保護及可靠性. 對于涉及高度腐蝕介質的嚴苛應用領域,工藝技術業務部提供具有碳化硅(SiC)管的管式 

研究人員發現低成本生產SiC的工藝電子工程專輯

2017年9月28日 為了降低SiC的制造成本,美國北卡羅萊納州立大學的研究人員設計了一種PRESiCE工藝,并搭配TI XFab實現低成本的SiC功率MOSFET

碳化硅SiC陶瓷的燒結工藝簡述 佳日豐泰

碳化硅陶瓷材料具有高溫強度大,高溫抗氧化性強,耐磨損性能好,熱穩定性,熱彭脹系數小,熱導率大,硬度高,抗熱震和耐化學腐蝕等優良特性。在汽車、機械化工、 

中車時代電氣6英寸碳化硅(SiC)生產線首批芯片試制成功_首頁_株洲中

2018年1月30日 時代電氣半導體事業部6英寸碳化硅(SiC)生產線是國內首條6英寸SiC 芯片結構設計、高溫離子注入機等50余臺工藝設備和90余項工藝調試, 

功率器件工藝材料雙雄并起:SiC和GaN基礎器件與非網

碳化硅的結構特性及優缺點. 碳化硅(SiC)俗稱金剛砂,為硅與碳相鍵結而成的陶瓷狀化合物,碳化硅在大自然以莫桑石這種稀罕的礦物的形式存在。自1893年起碳化 

SiC材料有哪些的性能? 知乎專欄

上世紀四五十年代,以硅(Si)和鍺(Ge)為代表的代半導體材料奠定了微電子產業的基礎。經過幾十年的發展,硅材料的制備與工藝日臻,Si基器件的設計和開發 

深入探討碳化硅工藝:半導體材料的新一代繼承者世強元件電商

2016年3月9日 碳化硅SiC材料的性能、SiC器件展現出的優良特性以及功率半導體器件的需求持續增長,激勵著人們對其工藝與器件開發上孜孜不倦的追求。

碳化硅 北京世紀金光半導體有限公司

【金光炫技】 "世紀金光"碳化硅晶片劃片裂片工藝再添新高! 碳化硅晶片是第三代半導體關鍵基礎材料,在微電子、電力電子和半導體照明器件等領域有著重要的應用和 

中科院成功研制4.03米世界口徑單體碳化硅反射鏡 新浪科技

2018年8月21日 大口徑光學反射鏡的制造難度,主要集中在反射鏡鏡坯制造、反射鏡光學加工等制造工藝環節。從碳化硅粉末,到終變成高剛度、高面形精度的4米 

碳化硅 409212 ChemicalBook

重結晶碳化硅磚是以高純碳化硅(SiC≥99%)為原料,采用濕法超細磨粉料調漿、澆注工藝,經超高溫燒成,因而此種磚具有比氮化硅結合的碳化硅磚更高的高溫斷裂 

我國第三代半導體材料制造設備取得新突破

近日,863 計劃先進制造技術領域"大尺寸SiC 材料與器件的制造設備與工藝技術 通常,國際上把碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)等寬禁帶半導體材料稱之為第三代半導.

3D SiC 碳化硅工藝技術頭條百科

2018年7月23日 3D SiCTM是深圳基本半導體有限公司獨有的碳化硅(SiC)工藝技術,能夠充分利用碳化硅的材料潛力,實現更高功率和更低損耗。通過掩埋摻雜柵極 

碳化硅 STMicroelectronics

隨著市場競爭愈演愈烈,基礎材料的成本不斷降低,碳化硅的供應鏈變得越來越穩健。意法半導體一直在努力改善材料和工藝質量。隨著材料和基于SiC技術的產品 變 

修改:功率器件必讀:SiC材料、工藝及功率器件簡介 求是緣半導體

2017年1月16日 SiC作為半導體器件中的重要材料,在高溫、功率、發光等領域都有著廣泛應用。采用SiC 材料制成的MESFET、MOSFET、JFET、BJT等元件的工作 

我國研制出4米大口徑碳化硅非球面光學反射鏡新華網 新華社

2018年8月21日 經歷數百次實驗探索與工藝驗證,項目研發團隊突破了一系列關鍵技術,建立了大口徑碳化硅鏡坯制造平臺,并先后研制成功2米、3米單體碳化硅鏡 

研究人員發現低成本生產SiC的工藝電子工程專輯

2017年9月28日 為了降低SiC的制造成本,美國北卡羅萊納州立大學的研究人員設計了一種PRESiCE工藝,并搭配TI XFab實現低成本的SiC功率MOSFET

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