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將刻蝕氣體通入刻蝕設備的腔室內,對SiC襯底進行刻蝕;其中,所述刻蝕氣體包括含氟氣體、O 2 和HBr(溴化氫) 氣體。本發明所提供的碳化硅襯底的刻蝕方法中,刻蝕氣體 2

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