立式真空磁控濺射鍍膜連續(xù)線:
◆生產(chǎn)節(jié)拍：≥45s
◆產(chǎn)品：ITO、AR膜、消影、硬膜、金屬膜、超高阻膜、低溫鍍膜
◆可鍍膜尺寸：G3.5-8.5
◆膜層均勻性： 根據(jù)不同靶材料均勻性控制不同:1.5%~5%（T Max.-Tmin.）/( T Max.+Tmin.)
◆設(shè)備特點：可單面，雙面鍍膜，腔體模塊式設(shè)計
立式真空磁控濺射鍍膜連續(xù)線:
◆生產(chǎn)節(jié)拍：≥45s
◆產(chǎn)品：ITO、AR膜、消影、硬膜、金屬膜、超高阻膜、低溫鍍膜
◆可鍍膜尺寸：G3.5-8.5
◆膜層均勻性： 根據(jù)不同靶材料均勻性控制不同:1.5%~5%（T Max.-Tmin.）/( T Max.+Tmin.)
◆設(shè)備特點：可單面，雙面鍍膜，腔體模塊式設(shè)計
公司自成立以來，一直是真空鍍膜設(shè)備行業(yè)內(nèi)的龍頭企業(yè)，是行業(yè)內(nèi)少數(shù)具有鍍膜生產(chǎn)線設(shè)備整體設(shè)計及系統(tǒng)集成能力的企業(yè)之一，被中國通用機(jī)械工業(yè)協(xié)會真空設(shè)備分會認(rèn)定為“真空設(shè)備行業(yè)重點企業(yè)”和“國內(nèi)真空鍍...
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